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西安理工大學理學院Li-Yong Chen等--通過摻雜和應變的協同效應調節石墨烯/MoS2異質結構的能帶排列、載流子遷移率和光吸收
       鑒于石墨烯零帶隙的性質,在基于石墨烯的范德瓦爾斯( van der Waals,vdWs )異質結構( HS )中,I型能帶排列占主導地位。這極大地影響了其在光電器件(如太陽能電池)領域的應用。在這項工作中,我們使用第一原理計算產生了 II 型能帶排列,該排列可以通過 M 摻雜石墨烯/MoS (M@G/MoS, M = Pd, Ti) HS 中的小雙軸應變來控制。此外,我們發現,在小范圍的雙軸應變下,應變的引入可以通過控制M@G/MoS2 HSs的能帶排列來有效調節可見光吸收。此外,Pd@G/MoS和Ti@G/MoS HSs在-4%至4%的應變范圍內,鋸齒狀方向的空穴遷移率始終超過1000 cm2·V-1·s-1。我們的研究結果有利于擴大石墨烯的 vdWs HS 在光電領域的應用。

 
圖1. vdWs HSs的能帶排列:(a)具有跨帶隙的I型能帶排列; (b)具有交錯帶隙的II型能帶排列; (c)具有破碎帶隙的III型能帶排列; VBM和CBM分別表示價帶極大值和導帶極小值。

 
圖2. 幾何結構: (a)G/MoS2; (b) Pd@G/MoS2; (c) Ti@G/MoS2 HSs。頂部和底部的面板對應于側視圖和頂部視圖。在(a)中,我們考慮了五個潛在的摻雜位點,即空穴位點(藍色圓圈)、S-和mo-頂部位點(黑色圓圈)和橋接位點(紅色圓圈)。

  
圖3. 通過AIMD模擬Pd@G/MoS2和Ti@G/MoS2 HSs的溫度和能量隨時間的變化。
 左圖:(a) 300 K; (c) 400K; 右圖:(b) 300 K; (d) 400K。

 
圖4 . 投影能帶結構:(a) G/MoS2 HS,( b ) Pd摻雜單層石墨烯,( c ) Ti摻雜單層石墨烯,( d ) Pd@G/MoS2; ( e ) Ti@G/MoS2 HS。費米能量在能量尺度上被設置為零。

 
圖5. 不同應變下平面雙軸應變和聲子色散下的示意圖:(a)Pd@G/MoS2 ; (b) Ti@G/MoS2 HSs。正應變和吸附應變分別對應于拉伸應變和壓縮應變。

 
圖6. 不同應變下Pd@G/MoS2和Ti@G/MoS2異質結的投影能帶結構。

 
圖7. 在不同應變條件下對帶結構進行帶排列:(a、b)摻雜vdWs HSs; (c) Pd@GL和Ti@GL的帶隙。

 
圖8. (a)未應變HSs; (b)應變Ti@G/MoS2; (c) Pd@G/MoS2 HSs的光吸收。

 
圖9. 不同應變水平下的Ti@G/MoS2 HS的投影能帶結構(上面板)和躍遷偶極矩(下面板)。這里,Δ1-n(n = 1-5)表示費米能級以下的第n個價帶與導電帶之間的電子躍遷。根據計算出的TDM振幅,與可見光吸收對應的可能的層間電子躍遷用箭頭突出顯示。

 
圖10. 300 K時,在應變條件下的載流子遷移率:(a,b) Pd@G/MoS2; (c,d) Ti@G/MoS2 HSs。這里,空穴和電子載流子分別對應于HS中摻雜的石墨烯層和MoS2層。

 
圖11. 摻雜vd Ws HSs (左)的投影能帶結構和Pd@GL和Ti@GL (右)在不同層間距離下的能帶隙。
 
      相關研究成果由西安理工大學理學院Li-Yong Chen等人于2024年發表在Surfaces and Interfaces (https://doi.org/10.1016/j.surfin.2024.104024 )上。原文:Modulating the band alignment, carrier mobility and optical absorption of graphene/MoS2 heterostructure via synergistic effects of doping and strain 

轉自《石墨烯研究》公眾號
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